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工程类型：室内装修，投资总额：1000万，建筑面积：28200㎡，业主类型：政府

项目描述 对四幢三层至五层高的厂房进行室内装修，总装修面积为28,200平方米，包括： *一幢五层高的厂房 *两幢四层高的厂房 *一幢三层高的厂房 项目采用:框架结构

工程类型：新建，投资总额：2600万，建筑面积：166000㎡，业主类型：商业

项目描述 兴建数幢车间,仓库,办公室和堆场,占地面积约166000平方米。

工程类型：新建，投资总额：3900万，建筑面积：15303㎡，业主类型：政府

项目描述 兴建一幢九层高的检测综合楼,设有单层高的地下室,建筑面积15,303平方米. 项目采用:框架结构

工程类型：新建，投资总额：1亿，建筑面积：15000㎡，业主类型：商业

项目描述 一项工业发展,占地面积约12000平方米,总建筑面积约15000平方米,包括: *厂房 *仓库 *办公楼 *职工食堂 *娱乐楼

工程类型：室内装修，投资总额：2100万，建筑面积：29796㎡，业主类型：商业

项目描述 对一幢24层高的办公楼的六层至24层进行室内装修,总装修面积为29, 796平方米. 项目采用:框架-剪力墙结构

工程类型：室内装修，投资总额：1300万，建筑面积：16450㎡，业主类型：政府

项目描述 对一幢七层高的生产调度楼进行室内装修,总建筑面积为16,450平方米

工程类型：新建，投资总额：9000万，建筑面积：45000㎡，业主类型：商业

项目描述 一项工业发展,占地面积约120000平方米,总建筑面积约45000平方米,包括: *车间 *仓库 *办公楼 *宿舍 *食堂

工程类型：新建，投资总额：4亿，建筑面积：39989㎡，业主类型：商业

一项综合发展，总建筑面积99，972平方米，包括：*公寓*办公楼*商业*银行*经济型酒店*地下车库

工程类型：新建，投资总额：5亿，建筑面积：320000㎡，业主类型：商业

一项工业发展，总占地面积约为320000平方米，分两期建设，包括：*厂房*研发楼*办公楼*宿舍

工程类型：新建，投资总额：1.27亿，建筑面积：42509㎡，业主类型：商业

该项目总建筑面积为42,509平方米，包括数幢部分精装修的综合楼，设有：■教学楼 ■宿舍楼 ■多媒体教室 ■办公楼 ■实训厂房部分建材和配置包括： ■主体结构为框架结构 ■外墙将采用涂料备注： 该项目总投资额为12740万元。

工程类型：新建，投资总额：65亿，建筑面积：1333950㎡，业主类型：商业

该项目总占地面积为1,333,950平方米, 包括：■年产6万吨多晶硅生产线 ■生产厂房 ■办公楼 ■宿舍楼 ■一台35万千瓦的自备电厂项目背景：■该项目总投资额为65亿元 ■项目技术采用改良西门子工艺, 将采用72对棒以上还原炉并配套余热回收系统, 使还原电耗低于40度, 配备大型成套冷氢化系统, 确保生产过程中无污染, 同时增加全场尾气冷却及淋洗系统, 实现废气循环利用, 降低生产成本, 使全生产过程零污染, 该项目建成投产后, 年产值将达到96亿元, 带动就业2600余人, 年利润42亿元, 年缴纳税收7亿元 ■武汉东立光伏电子有限公司是由武汉东立置业发展有限公司独家投资的现代化企业, 总投资40亿元人民币,1500吨多晶硅生产线于2010年投产,2011年产量扩大到12000吨, 全年产值20亿元, 公司引进全套美国西门子改良法生产工艺, 并且采用美国霍尼韦尔DCS中控系统, 采用世界领先的节能降耗工艺, 使成本降低50%, 并可达到生产零污染零排放, 其多晶硅产品应用与光伏组件, 太阳能电站, 以及电子产品, 光伏产品有着广大的国内外市场 ■武汉东立光伏电子有限公司一期在2010年初投产, 产量为1500吨。在2011年追加投资10多亿元开始技术升级, 产量扩产到12000吨, 采用世界领先的节能降耗工艺, 使成本降低50%, 定于2013年12月开始投料生产, 全年产值可达20亿元。属于资金技术密集行行业, 产品附加值高 ■武汉东立光伏电子有限公司全员400余人, 包括研究生10人, 本科100余人, 大专100余人, 有着强大的研发和管理团队, 主要负责人都是多晶硅行业专家, 有着丰富的生产管理经验。本公司发展以人为本, 敢为人先, 追求卓越。公司企业文化宗旨是勇于竞争, 敢于担当, 生态发展审批手续进展情况：目前(2014-05-14),该项目的前期手续尚未开始办理 设备购置情况：目前(2014-05-14),该项目的设备桑为开始采购,采购时间不详。 预计采购设备：电阻率测试仪、硅片综合检测仪、倒角机、多线切割机、磨片机、切片机、双管退火炉、熔单晶炉、自动化控制系统、风机、

工程类型：新建，投资总额：65亿，建筑面积：1333950㎡，业主类型：商业

该项目总占地面积为1,333,950平方米, 包括：■年产6万吨多晶硅生产线 ■生产厂房 ■办公楼 ■宿舍楼 ■一台35万千瓦的自备电厂项目背景：■该项目总投资额为65亿元 ■项目技术采用改良西门子工艺, 将采用72对棒以上还原炉并配套余热回收系统, 使还原电耗低于40度, 配备大型成套冷氢化系统, 确保生产过程中无污染, 同时增加全场尾气冷却及淋洗系统, 实现废气循环利用, 降低生产成本, 使全生产过程零污染, 该项目建成投产后, 年产值将达到96亿元, 带动就业2600余人, 年利润42亿元, 年缴纳税收7亿元 ■武汉东立光伏电子有限公司是由武汉东立置业发展有限公司独家投资的现代化企业, 总投资40亿元人民币,1500吨多晶硅生产线于2010年投产,2011年产量扩大到12000吨, 全年产值20亿元, 公司引进全套美国西门子改良法生产工艺, 并且采用美国霍尼韦尔DCS中控系统, 采用世界领先的节能降耗工艺, 使成本降低50%, 并可达到生产零污染零排放, 其多晶硅产品应用与光伏组件, 太阳能电站, 以及电子产品, 光伏产品有着广大的国内外市场 ■武汉东立光伏电子有限公司一期在2010年初投产, 产量为1500吨。在2011年追加投资10多亿元开始技术升级, 产量扩产到12000吨, 采用世界领先的节能降耗工艺, 使成本降低50%, 定于2013年12月开始投料生产, 全年产值可达20亿元。属于资金技术密集行行业, 产品附加值高 ■武汉东立光伏电子有限公司全员400余人, 包括研究生10人, 本科100余人, 大专100余人, 有着强大的研发和管理团队, 主要负责人都是多晶硅行业专家, 有着丰富的生产管理经验。本公司发展以人为本, 敢为人先, 追求卓越。公司企业文化宗旨是勇于竞争, 敢于担当, 生态发展审批手续进展情况：目前(2014-05-14),该项目的前期手续尚未开始办理 设备购置情况：目前(2014-05-14),该项目的设备桑为开始采购,采购时间不详。 预计采购设备：电阻率测试仪、硅片综合检测仪、倒角机、多线切割机、磨片机、切片机、双管退火炉、熔单晶炉、自动化控制系统、风机、

工程类型：新建，投资总额：10亿，建筑面积：322086㎡，业主类型：政府

一项综合发展，总建筑面积约为805，215平方米，包括：*五星级酒店*商业楼*办公楼*会所*住宅楼*地下停车库*地下商业用房*项目由内蒙古万正房地产开发有限责任公司投资建设。*经尽力核实，但仍未能查到设计单位和施工单位相关信息。

工程类型：新建，投资总额：10亿，建筑面积：322086㎡，业主类型：政府

一项综合发展，总建筑面积约为805，215平方米，包括：*五星级酒店*商业楼*办公楼*会所*住宅楼*地下停车库*地下商业用房*项目由内蒙古万正房地产开发有限责任公司投资建设。*经尽力核实，但仍未能查到设计单位和施工单位相关信息。